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默认必需的模块和生成模块

发射器随附且其功能所必需的模块。

创建新的发射器时，以下类和模块始终存在。它们始终存在，不能被删除。

(#requiredmodule)

必需模块

每个粒子发射器都包含这个模块，其中包含粒子发射器所需的所有属性。包括：

属性 说明
发射器  
材质 要应用于粒子的材质。
发射器原点 3D空间中将从该发射器发射出粒子的点，除非其他模块另有指定。
发射器旋转 应用于发射器自身的局部旋转。
屏幕对齐 粒子相对于摄像头的朝向。允许以下模式：
标志 描述
面向摄像机位置 粒子将旋转以面向摄像机位置，但将忽略摄像机旋转。
正方形 等分缩放（强制为X设置），面向摄像机。
矩形 非等分缩放，面向摄像机。
速度 让粒子面向摄像机和粒子的移动方向。不允许非等分缩放。
类型特定 使用类型数据模块中指示的对齐方法。（仅限网格体）
使用局部空间 指示粒子发射器是（true）否（false）应用其父代的场景变换。如果为_true_，粒子发射器将在局部空间执行所有操作。
停用时终止 指示粒子发射器是否应在停用时终止所有粒子。如果为_false_，任何存活粒子将在发射器停用时终止其生命。
完成时终止 指示粒子系统组件应在完成时终止该发射器实例。
排序模式 用于发射器的排序模式。
模式 说明
PSORTMODE_无 不执行排序。
PSORTMODE_视图投影 根据视图投影按深度对粒子排序。
PSORTMODE_距离到视图 在场景空间中，按粒子到摄像机的距离对粒子排序。
PSORTMODE_年龄_最老优先 按年龄对粒子排序，最先绘制的粒子排在前面。
PSORTMODE_年龄_最新优先 按年龄对粒子排序，最新绘制的粒子排在前面。
使用传统发射器时间 如果为_true_，则发射器的EmitterTime将通过用EmitterDuration调制SecondsSinceCreation来计算。由于这对循环和可变持续时间会导致问题，因此实现了一种新方法。如果为_false_，将使用这种新方法，发EmitterTime只需要在每个tick增加DeltaTime。当发射器循环时，它按当前EmitterDuration调整EmitterTime，产生正确的循环/延迟行为。
轨道模块影响速度调整 如果为_true_，则轨道模块生成的运动应用于速度一致的粒子。
持续时间  
发射器持续时间 指示发射器在循环前运行的时间，以秒为单位。如果设置为0，发射器将永不循环。
发射器持续时间低 指定允许在发射器持续时间内变化的发射器持续时间的低端。
发射器持续时间使用范围 当为_true_时，发射器将在启动时从_EmitterDurationLow_到_EmitterDuration_的范围内选择持续时间。
每次循环重新计算持续时间 当为_true_时，发射器将在循环时从_EmitterDurationLow_到_EmitterDuration_的范围内选择一个新的持续时间。
发射器循环 进入不活动之前循环的次数。如果设置为0，发射器将持续运行，“永远”循环。
延迟  
发射器延迟 延迟启动发射器的时间。允许在单个粒子系统内“交错”发射器。这也相当于使用范围时选择随机延迟值的上限。
发射器延迟低 使用范围时选择随机延迟值的下限。
发射器延迟使用范围 如果为_true_，发射器的有效延迟值将是从范围[发射器延迟低, 发射器延迟]中选择的随机值。
仅第一个循环延迟 当为_true_时，EmitterDelay大于0、EmitterLoops大于1的发射器将仅在第一次循环时执行延迟。
子UV  
子UV数据指示发射器应利用所应用纹理的子图像。这对于在粒子上实现简单动画十分有用。  
插值方法 指示用来在子图之间插值的方法的列举。可以是以下某个值：
方法 说明
无 不对该发射器应用子UV模块。
线性 按给定顺序，平滑地在子图之间过渡，而不混合当前子图和下一个子图。
线性_混合 按给定顺序，平滑地在子图之间过渡，混合当前子图和下一个子图。
随机 随机选取下一个图像，不混合当前图像和下一个图像。
随机_混合 随机选取下一个图像，混合当前图像和下一个图像。
子图_水平 纹理水平轴（x）上的纹理中的子图数量。
子图_垂直 纹理垂直轴（y）上的纹理中的子图数量。
缩放UV 指示应缩放UV值以正确`适应子图尺寸。这仅用于网格体发射器。
随机图像更改 在插值方法设置为随机时，在粒子生命周期内更改图像的次数。
宏UV  
宏UV分段指示发射器应利用宏UV，允许单个图像连续地映射到多个粒子，而不是每个粒子单独映射。请注意，要利用这个功能，应用于粒子的材质必须利用_ParticleMacroUV_材质表达式节点。  
覆盖系统宏UV 如果为_true_，这里的设置将覆盖系统宏UV设置，可以通过取消选择级联发射器列表中的所有发射器和模块来查看。
宏UV位置 局部空间位置，所有宏UV计算都始于这个位置。
宏UV半径 场景半径，超过这个半径的所有宏UV材质将开始平铺。
渲染  
使用最大绘制计数 当为_true_时，发射器永远不会绘制超过“最大绘制计数”数量的粒子。所有粒子在tick时仍会更新。
最大绘制计数 限制渲染到的粒子数量。
UV翻转模式 以多种不同的方式启用Sprite和GPU粒子UV翻转。
模式 说明
无 不发生UV翻转。这是默认值。
翻转UV 翻转U和V纹理坐标。
仅U 仅翻转U纹理坐标。
仅V 翻转V纹理坐标。
随机翻转UV 在产生时间同时随机翻转U和V。
仅随机翻转U 在产生时间仅随机翻转U。
仅随机翻转V 在产生时间仅随机翻转V。
独立随即翻转UV 在产生时间单独随机翻转U和V。
法线  
发射器法线模式 用于为该发射器LOD生成法线的模式。
模式 说明
ENM_面向摄像机 默认模式，法线基于面向摄像机的几何体。
ENM_球体 从以法线球体中心为中心的球体生成法线。
ENM_圆柱体 从圆柱体生成法线，穿过法线球体中心，沿着法线圆柱体方向。
法线球体中心 当_发射器法线模式_设置为_ENM_球形_，则创建的粒子法线是背对_法线球体中心_远离。该值位于局部空间。
法线圆柱体方向 当_发射器法线模式_为_ENM_圆柱体_时，则创建的粒子法线是背对圆柱体远离，穿过_法线球体中心_，沿着_法线圆柱体方向_移动。该值位于局部空间。

(#spawnmodule)

产生模块

每个粒子发射器都包含这个模块，其中包含用于确定如何产生粒子的所有属性。包括：

属性 说明
产生  
速度 该浮点分布提供给定时间发射器的粒子产生速度（每秒粒子数）。
速度比例 应用于发射器的_速度_的比例因子。
处理产生速度 如果为_true_，将处理_速度_。如果有多个产生模块“堆叠”在发射器中，并且有任何一个模块禁用了这个属性，则不会处理发射器的_速度_。
爆发  
爆发数据指示发射器应在设定的时间强制发射指定数量的粒子。这个过程涉及以下成员：  
粒子爆发方法 通过爆发发射粒子时所用的方法。当前忽略。
爆发列表 一个整数数组，包括“计数”、“计数低”和浮点时间值，用于确定所需的粒子爆发。在发射器生命周期内，时间位于[0..1]范围内。如果“计数低”设置为-1，发射且将在给定时间爆发出“计数”数量的粒子。否则，发射器将在给定时间在范围[计数低..计数]范围内爆发出随机数量的粒子。
处理爆发列表 如果为_true_，将处理_爆发列表_。如果有多个产生模块“堆叠”在发射器中，并且有任何一个模块禁用了这个属性，则不会处理发射器的_爆发列表_。
爆发比例 按这个数量调节所有爆发条目。

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