| 发射器 |
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| 材质 |
要应用于粒子的材质。 |
| 发射器原点 |
3D空间中将从该发射器发射出粒子的点,除非其他模块另有指定。 |
| 发射器旋转 |
应用于发射器自身的局部旋转。 |
| 屏幕对齐 |
粒子相对于摄像头的朝向。允许以下模式:
| 标志 |
描述 |
| 面向摄像机位置 |
粒子将旋转以面向摄像机位置,但将忽略摄像机旋转。 |
| 正方形 |
等分缩放(强制为X设置),面向摄像机。 |
| 矩形 |
非等分缩放,面向摄像机。 |
| 速度 |
让粒子面向摄像机和粒子的移动方向。不允许非等分缩放。 |
| 类型特定 |
使用类型数据模块中指示的对齐方法。(仅限网格体) |
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| 使用局部空间 |
指示粒子发射器是(true)否(false)应用其父代的场景变换。如果为_true_,粒子发射器将在局部空间执行所有操作。 |
| 停用时终止 |
指示粒子发射器是否应在停用时终止所有粒子。如果为_false_,任何存活粒子将在发射器停用时终止其生命。 |
| 完成时终止 |
指示粒子系统组件应在完成时终止该发射器实例。 |
| 排序模式 |
用于发射器的排序模式。
| 模式 |
说明 |
| PSORTMODE_无 |
不执行排序。 |
| PSORTMODE_视图投影 |
根据视图投影按深度对粒子排序。 |
| PSORTMODE_距离到视图 |
在场景空间中,按粒子到摄像机的距离对粒子排序。 |
| PSORTMODE_年龄_最老优先 |
按年龄对粒子排序,最先绘制的粒子排在前面。 |
| PSORTMODE_年龄_最新优先 |
按年龄对粒子排序,最新绘制的粒子排在前面。 |
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| 使用传统发射器时间 |
如果为_true_,则发射器的EmitterTime将通过用EmitterDuration调制SecondsSinceCreation来计算。由于这对循环和可变持续时间会导致问题,因此实现了一种新方法。如果为_false_,将使用这种新方法,发EmitterTime只需要在每个tick增加DeltaTime。当发射器循环时,它按当前EmitterDuration调整EmitterTime,产生正确的循环/延迟行为。 |
| 轨道模块影响速度调整 |
如果为_true_,则轨道模块生成的运动应用于速度一致的粒子。 |
| 持续时间 |
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| 发射器持续时间 |
指示发射器在循环前运行的时间,以秒为单位。如果设置为0,发射器将永不循环。 |
| 发射器持续时间低 |
指定允许在发射器持续时间内变化的发射器持续时间的低端。 |
| 发射器持续时间使用范围 |
当为_true_时,发射器将在启动时从_EmitterDurationLow_到_EmitterDuration_的范围内选择持续时间。 |
| 每次循环重新计算持续时间 |
当为_true_时,发射器将在循环时从_EmitterDurationLow_到_EmitterDuration_的范围内选择一个新的持续时间。 |
| 发射器循环 |
进入不活动之前循环的次数。如果设置为0,发射器将持续运行,“永远”循环。 |
| 延迟 |
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| 发射器延迟 |
延迟启动发射器的时间。允许在单个粒子系统内“交错”发射器。这也相当于使用范围时选择随机延迟值的上限。 |
| 发射器延迟低 |
使用范围时选择随机延迟值的下限。 |
| 发射器延迟使用范围 |
如果为_true_,发射器的有效延迟值将是从范围[发射器延迟低, 发射器延迟]中选择的随机值。 |
| 仅第一个循环延迟 |
当为_true_时,EmitterDelay大于0、EmitterLoops大于1的发射器将仅在第一次循环时执行延迟。 |
| 子UV |
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| 子UV数据指示发射器应利用所应用纹理的子图像。这对于在粒子上实现简单动画十分有用。 |
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| 插值方法 |
指示用来在子图之间插值的方法的列举。可以是以下某个值:
| 方法 |
说明 |
| 无 |
不对该发射器应用子UV模块。 |
| 线性 |
按给定顺序,平滑地在子图之间过渡,而不混合当前子图和下一个子图。 |
| 线性_混合 |
按给定顺序,平滑地在子图之间过渡,混合当前子图和下一个子图。 |
| 随机 |
随机选取下一个图像,不混合当前图像和下一个图像。 |
| 随机_混合 |
随机选取下一个图像,混合当前图像和下一个图像。 |
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| 子图_水平 |
纹理水平轴(x)上的纹理中的子图数量。 |
| 子图_垂直 |
纹理垂直轴(y)上的纹理中的子图数量。 |
| 缩放UV |
指示应缩放UV值以正确`适应子图尺寸。这仅用于网格体发射器。 |
| 随机图像更改 |
在插值方法设置为随机时,在粒子生命周期内更改图像的次数。 |
| 宏UV |
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| 宏UV分段指示发射器应利用宏UV,允许单个图像连续地映射到多个粒子,而不是每个粒子单独映射。请注意,要利用这个功能,应用于粒子的材质必须利用_ParticleMacroUV_材质表达式节点。 |
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| 覆盖系统宏UV |
如果为_true_,这里的设置将覆盖系统宏UV设置,可以通过取消选择级联发射器列表中的所有发射器和模块来查看。 |
| 宏UV位置 |
局部空间位置,所有宏UV计算都始于这个位置。 |
| 宏UV半径 |
场景半径,超过这个半径的所有宏UV材质将开始平铺。 |
| 渲染 |
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| 使用最大绘制计数 |
当为_true_时,发射器永远不会绘制超过“最大绘制计数”数量的粒子。所有粒子在tick时仍会更新。 |
| 最大绘制计数 |
限制渲染到的粒子数量。 |
| UV翻转模式 |
以多种不同的方式启用Sprite和GPU粒子UV翻转。
| 模式 |
说明 |
| 无 |
不发生UV翻转。这是默认值。 |
| 翻转UV |
翻转U和V纹理坐标。 |
| 仅U |
仅翻转U纹理坐标。 |
| 仅V |
翻转V纹理坐标。 |
| 随机翻转UV |
在产生时间同时随机翻转U和V。 |
| 仅随机翻转U |
在产生时间仅随机翻转U。 |
| 仅随机翻转V |
在产生时间仅随机翻转V。 |
| 独立随即翻转UV |
在产生时间单独随机翻转U和V。 |
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| 法线 |
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| 发射器法线模式 |
用于为该发射器LOD生成法线的模式。
| 模式 |
说明 |
| ENM_面向摄像机 |
默认模式,法线基于面向摄像机的几何体。 |
| ENM_球体 |
从以法线球体中心为中心的球体生成法线。 |
| ENM_圆柱体 |
从圆柱体生成法线,穿过法线球体中心,沿着法线圆柱体方向。 |
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| 法线球体中心 |
当_发射器法线模式_设置为_ENM_球形_,则创建的粒子法线是背对_法线球体中心_远离。该值位于局部空间。 |
| 法线圆柱体方向 |
当_发射器法线模式_为_ENM_圆柱体_时,则创建的粒子法线是背对圆柱体远离,穿过_法线球体中心_,沿着_法线圆柱体方向_移动。该值位于局部空间。 |